實驗用小型電漿系統設備

電漿輔助化學氣相沉積 Model: PECVD-Clip Series Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)

規格:

一.綜合說明: 腔體上蓋板上掀式設計，手動放置晶片,無Load Lock。

晶片尺寸: 8〞或8〞以下。

二.電漿源   RF Generator 13.56MHz, 600W自動匹配器。

三.機台尺寸  寬800x深1060x高1900mm

規格可依客戶需求調整